हाफ़नियम डाइऑक्साइड (Hfo2) आवेदन: मलजल

हम डोंगगुआन, ग्वांगडोंग, चीन में एक उत्कृष्ट गुणवत्ता वाले हाफ़नियम डाइऑक्साइड (HfO2) के निर्माण और आपूर्ति में सहायक हैं, जो निम्नलिखित विनिर्देशन के साथ उपलब्ध है: - शुद्धता: 99.9% उपलब्धता: टुकड़े, टैबलेट, लक्ष्य। घनत्व: 9.68 ग्राम/सेमी 3 अपवर्तक सूचकांक: 500 एनएम पर 1.95 पारदर्शिता सीमा: 230nm-7000nm अनुप्रयोग: HfO2, एक प्रकार की उत्कृष्ट उच्च-सूचकांक सामग्री है, जिसमें उच्च रासायनिक और यांत्रिक स्थिरता होती है, और यूवी अनुप्रयोग के लिए एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स इंटरफेरेंस कोटिंग्स में उपयोग किए जाने पर प्रकाश का बेहद कम अवशोषण और प्रसार होता है। HfO2 अच्छी उच्च लेजर क्षति सीमा सामग्री के रूप में भी काम करता है। ग्राहक हमारे द्वारा उद्योग की अग्रणी कीमतों पर इस हेफ़नियम डाइऑक्साइड (HfO2) का लाभ उठा सकते हैं।