ग्रिश केमिकल मैकेनिकल प्लानराइजेशन स्लरी अनुप्रयोग: सिलिकॉन कार्बाइड सबस्ट्रेट

ग्रिश सीएमपी स्लरी विभिन्न पॉलिशिंग आवश्यकताओं के अनुसार अद्वितीय फॉर्मूला डिजाइन के साथ कोलाइडल सिलिका को बेस के रूप में लेती है। स्थिर पीएच मान पॉलिशिंग दर को स्थिर रखता है और पॉलिशिंग समय बचाता है। इसका उपयोग विभिन्न सामग्रियों, जैसे नीलम, अर्धचालक सामग्री (उदा) के लिए रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग में व्यापक रूप से किया जा सकता है। Si, Ge, GaAs, InP, SiC, GaN, AlN), स्टेनलेस स्टील, A एल्यूमीनियम मैग्नीशियम मिश्र धातु और यौगिक क्रिस्टल आदि। एप्लीकेशन: सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट, ए सैफायर ए एलईडी सामग्री, एक स्टेनलेस स्टील, एक ऑप्टिकल ग्लास और क्रिस्टल, एक एल्यूमीनियम नाइट्राइड हीट सिंक सब्सट्रेट, एक ऑप्टिकल संचार विशेषताऐं: 1। समान गोलाकार SiO2 कण। 2। उच्च निष्कासन दर और स्थिर पॉलिशिंग प्रदर्शन। 3। आरए<0.2nm और TTV<0.3um के साथ सटीक पॉलिशिंग गुणवत्ता। 4। कई बार साइकिल का उपयोग करें। 5। कम तापमान वाली पॉलिशिंग प्रक्रिया (35 ए के तहत) के लिए लागू। 6। न्यूट्रल या कमजोर एसिड पॉलिशिंग स्लरी उपलब्ध है।